“三星其采用革命性的紫外线技术制成的DRAM已经出货”
发布时间：2021-06-08 20:30:02
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euv是光刻格式，通常存储在解决方案和其他相关芯片组中。 它具有构建高端SOC7nm体系结构所需的高精度、高度集中的模式生成能力，更不用说下一代了，也是更下一代。 但是，出于同样的理由，三星最近也将这个工艺应用于dram芯片的生产。
事实上，oem认为，在该行业中采用euv可以提高性能、提高工作效率和缩短开发周期。 总之，与传统方法相比，企业可以在更精细的时间段内增加高端存储的容量。
这项新技术是作为面向it领域购买者的10纳米级d1xddr4内存而实现的。 其开发成功的是第四代10nm级d1a三星dram的批量生产。
该内存为ddr5或lpddr5，预计在不久的将来与该公司的高端14纳米级存储芯片一起通过euv工艺制造。 三星目前预测，基于d1a的芯片将于2021年量产。
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